广州某半导体器件心片制造出厂，晶圆生产加工过程中中呈现含硅、氟的比较特殊污水，设计的正确正确处理的规模1200吨/日。污水物质繁复，含带纳米技术级硅粒状及氢佛酸，传统型正确正确处理具体方法不好及格。 废水处理工艺因素及种类 重要弄脏物 ：溶液硅（100-500nm粒度分布）、氟正离子（200-300mg/L）、异丙醇 的来源制作工艺 ：晶圆刻蚀生活污水（45%）、CMP无机化学机械化增加光泽生活污水（40%）、装置清扫冲洗水（15%） 处里生产技术程序 什么是创新选取"化学式乳浊液+特种车辆膜脱离"新技术自驾线路： 钙盐沉淀物 ：污泥脱水氯化钙祛除氟铝离子（形成CaF2石雕文化沉淀） 水解酸化池不良反应 ：组合斜板沉淀池剂改变电解质溶液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm粒径膜挪作他用微细粒子 反构建系統 ：脱盐率>98%，再利用率75% 蒸发器成果 ：浓水段实行氟化物零减排 进而疗效 氟化物有机废气浓度：<8mg/L（压低国家的三级的标准10mg/L） 硅水分含量：<5mg/L 水的资源工业废水处理率：70%使用在蒸发塔补湿 危险废弃物减轻：减压蒸馏渣滓量较传统型工艺技术削减60%