某半导制做公司企业因晶圆清理制作工艺存在含氨化工废水，蓄水量200吨/天。化工废一般的水都除氧化还原电位外还包含有氟化物和微量分析巨资属，工作难度很大大。本县排污规定符合要求氧化还原电位＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废水处理方法基本成分及来源于 晶圆洗涤工业废水（主要的由来）：含氟化物200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀步骤焦化废水：含进样器铜、镍等天价属，pH值变化大 CMP机磨废水处理：含硅粒状及挥发酚 处理生产工艺的流程 使用"化学上石雕文化沉淀+膜分割+折点氯化"组合成生产技术： 预外理 ：加药系统CaCl2除氟，设定pH在7.5-8. 反渗透装置系统的 ：快速清理0.01μm上面的颗粒状物 反浸入萃取 ：将化学需氧量浓缩提炼至1000mg/L及以上 折点氯化 ：精准管理氯污泥脱水量，将挥发酚应用为离氮气 阳离子交流 ：担保天价属考核标准 终究结果 氯离子增强＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 巨资属量低过的检测限 水回收利用率达75% 污泥干化引起量降低40%