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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆制造制造厂在华北省市,关键制造8寸大半导体材料晶圆,日访问量废渣摆放量下跌约800吨。是由于制造全过程中采用非常多的氢氧化钠实施晶圆蚀刻,从而导致废渣中氟化物质量浓度高达模型200-300mg/L,远超的国家摆放基准(10mg/L下面)。 废气营养成分及来历 废液重点产自八个关键环节: 晶圆蚀刻工艺程序 :含高溶液浓度氟化物(HF)、硝酸银及大量天价属 物理机械装备cnc精密机械加工(CMP)焦化废水 :含纳米级级硅颗粒物、有机酸络合剂 机械设备除垢废气 :含异丙醇、挥发酚等有机的物 解决工艺设备标准流程 主要采用"化学反应放置+水泥混凝土放置+进一步滤出"三级职业资格证书处里设备: 1级解决 :添加氯化钙和氢阳极氧化钙,出现氟化钙凝固,氟化物除去率达85% 一级整理 :加PAC(汇聚氯化铝)和PAM(高密度聚乙烯酰胺),出掉电解质溶液态造成的污物 3级操作 :经由多媒质活性酶类炭压滤机和活性酶类炭树脂吸附,喷水氟化物酸度安全稳定在8mg/L下 重点机器收录:pH手动调理模式、斜管结晶池、板框刮刀离心机(生活污水出现脱水)。 结果是效果好 工作正常运作两年监测站资料凸显: 氟化物均匀浓度值:7.2mg/L(高于国家的标准) COD祛除率:92% 工业废水水分含量率:≤65% 年再灵活运用氟化钙加工品设备约150吨,达到资源英文化灵活运用

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