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某特大型半导体技术制作行业为于长三角形城市,常见研发晶圆和工作器。在研发过程中中,晶圆裁切和镜面抛光时期产生大量研磨抛光液废气,单日进行排股票放量约50吨。基于废气中所含高密度悬浮物物、金属件正离子及设计移除剂,会进行产生会对大环境带来较为严重的感染,行业需要鑫霖环保专门工作配套设施。
废污水部分及起源
考虑液污水主耍的因素于晶圆鑫霖环保中的化学式机械性拋光(CMP)流程,主耍的环保问题物涵盖:
飘浮小粒物
:二钝化硅、钝化铝等磨研粒状,粒级在0.1-1μm,浓硫酸浓度自由高达2000mg/L。
材料化合物
:铜、铁、锌等,来自五湖四海镜面抛光垫变形及晶圆接触面黑色金属层,铜阳离子氧浓度约50mg/L。
有机酸获取剂
:其中包括外表催化双氧水稳定剂、脱硫剂等,COD值在800-1200mg/L。
酸性性成分
:pH值振幅大,大多数在2-11中。
解决技艺工作流程
而对废污水性状,采用了“预补救+血生化+深入补救”组合公式生产工艺:
调接池
:匀衡水质量用水量,加碱酸调接pH至比较适中。
水泥混凝土沉淀出的
:加药系统PAC(聚合物氯化铝)和PAM(聚丙稀酰胺),去掉悬停物和溶液,沉降后SS去掉率>90%。
促使钝化
:主要采用Fenton采血管(H₂O₂+Fe²⁺)吸附有机会放入剂,COD祛除率达60%。
生物学除理
:MBR膜动物发膜生物反应器进步骤降解塑料剩下的设计物,COD降低100mg/L下述。
化合物相互交换
:专门的树脂胶物理吸附铜亚铁离子,喷水铜占比<0.5mg/L。
砂滤+活性氧炭过滤系统
:为了保证有水出清辙,实现《污水废气网络综合废气标淮》(GB8978-1996)考试内容一级标淮。
后面功能
控制系统运转维持后:
SS<10mg/L,COD<60mg/L,铜阴阳离子<0.3mg/L。
工业焦化废水处理率达40%,剩于标准摆放物,年变少焦化废水摆放物1.20万吨。
治疗价格约15元/吨,远降至服务业平均值。